보유장비
ICP-RIE
- 분류
- 예약가능여부
- 가능
- 담당부서
- 장비표준분류
- 기계가공·시험 ▷ 반도체장비
- 취득방법
- 1
세부정보
| 모델명 | DPIE Series | 제작사 | ㈜울텍 |
|---|---|---|---|
| 제작국가 | 한국 | ||
| 구성 및 성능 |
■ Wafer 크기 : 6인치 ■ 고밀도 플라즈마 발생원 : ICP Type ■ ICP전극 : 2Kw, 13.56MHz, Auto-Matching Type ■ 하부전극 : 555W, 13.56MHz, Auto-Matching Type ■ Loadlock Chamber : Stand-Alone Type(Option : Robot Type) ■ 최저진공도 Process Chamber : ≤ 5 × 10-6 Torr Loadlock Chamber : ≤ 3 × 10 Torr |
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| 사용 예 | 디스플레이 분야 | ||
| 장비 설명 | 시료를 고주파유도코일에 의하여 형 성된 알곤 플라스마에 도입하여 6,000～8,000 K에서 여기된 원자가 바닥상태로 이동할 때 방출하는 발광선 및 발광강도를 측정하여 원소의 정성 및 정량분석에 이용하는 방법 | ||
| 사용료 (1h기준, 원) |
0원 | ||
| 설치장소 | 벤처산학협력관 103 | ||
담당자정보
| 장비담당자 성명 | 배병성 | 휴대폰번호 | |
|---|---|---|---|
| 이메일 | mcbobbylee@paran.com | ||
