보유장비
나노표면가공시스템
Nano Plasma System
- 분류
- 예약가능여부
- 불가능
- 담당부서
- 장비표준분류
- 취득방법
- 1
세부정보
| 모델명 | ASHER-4 | 제작사 | ㈜울텍 |
|---|---|---|---|
| 제작국가 | 한국 | ||
| 구성 및 성능 | (1) Power supply : Volt 220V/ Pole 3/ Maximum Power Consumption 35kVA/Frequency 60HZ (2) Out Rating : Output 30kW/ Output Frequency 30kHz(±5kHz) (3) Dimension : 1,300h×600w×800d mm | ||
| 사용 예 |
고온 플라즈마 공법에 의한 Nano Filler 및 Nano Glass Frit의 최적 제조 조건 개발에 활용함 플라즈마는 고온에서 음전하를 가진 전자와 양전하를 가진 이온으로 분리된 기체로 전하 분리도가 높으면서도 중성을 띠고 있는 물질의 상태를 의미한다. 플라즈마는 다양한 산업 분야에 활용되는 고급 기술로서 전자부품의 미세 제조공정에서부터 대규모 핵융합 발전까지 산업전반에서 매우 광범위하게 요구되고 있다. 특히, 반도체, 태양전지, 적층형 세라믹 캐패시터, 디스플레이 등의 부품소재 산업 분야에서는 박막 코팅, 표면처리 등의 공정을 위한 저온플라즈마에서 열 용사 코팅, 나노 소재 합성, 소재 정련을 위한 고온 플라즈마까지 다양하게 응용되고 있으며 그 영역이 확대되고 있다. |
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| 장비 설명 | 플라즈마의 빠른 열전달 능력과 결합된 급속냉각 공정은, 기계적 분쇄와 같은 재래식 방법으로는 더 이상의 미분화가 힘든 금속 및 세라믹 분말의 순간 가열에 의한 역적화 및 이들의 비산, 혹은, 기화 후 응축에 따른 초미분화에 유용하게 쓰일 수 있다. 특히, 고주파 유도결합 플라즈마(ICP)는, 직류 토칭 비해 전극에 의한 오염이 없을 뿐만 아니라, 축 방향 주입이 가능하고, 고온 영역의 체적이 수십 배로 커지고 속도가 느려서 반응물이 오랫동안 고온 플라즈마 환경에 머물러 더욱 효과적인 열전달이 일어날 수 있기 때문에, 나노 분말 합성, 용사 코팅 등 신소재 개발에 많이 활용되고 있다. | ||
| 사용료 (1h기준, 원) |
19,000원 | ||
| 설치장소 | 벤처창업기업관 103호 | ||
담당자정보
| 장비담당자 성명 | 한정수 | 휴대폰번호 | |
|---|---|---|---|
| 이메일 | rbc3716@hoseo.edu | ||
