보유장비
마그네트론스퍼터
Magnetron Sputter
- 분류
- 예약가능여부
- 불가능
- 담당부서
- 장비표준분류
- 취득방법
- 1
세부정보
| 모델명 | 제작 | 제작사 | 지우기술 |
|---|---|---|---|
| 제작국가 | 한국 | ||
| 구성 및 성능 |
* DC&RF 마그네트론 스퍼터(DC&RF Magnetron Sputter) 구성및성능 - 플라스마 여기방법 : DC 2채널 RF 1채널 (magnetron sputter) - DC 전력 : 1kW RF 전력 : 600W (RF matching box 포함) - 스퍼터 Gun : 3 타겟 2 인치 직경 - 최대 기판크기 : 4 인치 직경 (조각시편 장착가능) - 도달진공도: 2x10-7 Torr - 기체흐름조절장치: Ar O2 N2 (MFC 조절) - 전력: 3상 220V 50A |
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| 사용 예 |
DC&RF 마그네트론 스퍼터(DC&RF Magnetron Sputter) 활용분야 - 금속박막의 증착 - 반도체박막의 증착 - 절연박막의 증착 Main Chamber Target gun Turbo pump RF generator |
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| 장비 설명 |
* DC&RF 마그네트론 스퍼터(DC&RF Magnetron Sputter) 특징 Si 나노구조체를 이용한 열전소자 태양전지 및 LED 제작용 박막 증착장비 - 금속박막의 증착 - 반도체박막의 증착 - 절연박막의 증착 |
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| 사용료 (1h기준, 원) |
4,000원 | ||
| 설치장소 | 제2공학관 319호 | ||
담당자정보
| 장비담당자 성명 | 한정수 | 휴대폰번호 | |
|---|---|---|---|
| 이메일 | rbc3716@hoseo.edu | ||
