보유장비
Maskless Laser Lithography System
- 분류
- 예약가능여부
- 불가능
- 담당부서
- 장비표준분류
- 기계가공·시험 ▷ 반도체장비
- 취득방법
- 1
세부정보
| 모델명 | DWL 66FS | 제작사 | Heidelberg Instruments Mikrotechnik Gmbh |
|---|---|---|---|
| 제작국가 | 독일 | ||
| 구성 및 성능 | Minimum Feature size: 0.6um Substrate size: 8" X 8" Wafer, 9" mask hold 가능 442nm HeCd 405nm Laser Diode 363nm Ar lon Laser 사용가능 AOM ,AOD 사용 20nm address grid 10nm stage resolution Gray Scale Exposure, Back-side slignment Metrology Multi layer slignment Rapid prototyping Low operating costs Ease of operation Precision and Versatility Small volume production | ||
| 사용 예 | |||
| 장비 설명 | Maskless Lithography & Direct Writing - ASICS - Multilevel exposure - Sensors - Photo-mask 형성 장비 - Sensors - MEMS - 반도체 Mask - Lead frame - Thin Film Transistor | ||
| 사용료 (1h기준, 원) |
0원 | ||
| 설치장소 | 벤처산학협력관 B04 | ||
담당자정보
| 장비담당자 성명 | 한정수 | 휴대폰번호 | |
|---|---|---|---|
| 이메일 | cjh13@hoseo.edu | ||
